Postdoctoral Fellow / Process Engineer for metal assisted chemical etching — ETH Zürich

Description complète

Fellow postdoctoral / Ingénieur de procédés pour la gravure chimique assistée par métal

100%, Zurich, durée déterminée

La chaire d'imagerie par rayons X est dédiée à l'avancement de la traduction clinique de l'interférométrie par rayons X basée sur la grille en étroite collaboration avec des partenaires industriels. Cette technologie novatrice repose sur le développement d'optiques à rayons X ultramodernes grâce à des techniques de pointe de micro- et nanofabrication.

Pour soutenir cet effort, nous recherchons un chercheur postdoctoral ou ingénieur de processus hautement motivé pour rejoindre le projet financé par la SNSF ABSOLUTE , travaillant sous la supervision de notre spécialiste en micro- et nanofabrication, le Dr Lucia Romano, à l'Institut Paul Scherrer. Dans le cadre d'une équipe multidisciplinaire de chercheurs universitaires et industriels, vous contribuerez au développement et à l'optimisation de technologies de fabrication de nouvelle génération ayant une pertinence directe pour les applications avancées d'imagerie par rayons X.

Le projet financé par la SNSF ABSOLUTE (n A noassem B led cataly S t and electr O chemica L processing for h U ge aspec T ratio microstructur E s) met l'accent sur le développement d'un concept innovant de catalyseur pour le contrôle des défauts dans la gravure chimique assistée par métal (MacEtch) du silicium. Le projet vise à surmonter les défis clés dans la fabrication de microstructures à haut rapport d'aspect en améliorant la fiabilité des procédés, l'évolutivité et la qualité de la fabrication.

Description du poste

Dans ce rôle, votre principale responsabilité sera d'élargir et d'améliorer nos capacités de test MacEtch pour une large gamme de tailles de fonctionnalités et de rapports d'aspect. Vous étudierez les mécanismes de formation des défauts, optimiserez les paramètres du processus, évaluerez l'évolutivité et contribuerez au développement de procédés de fabrication robustes qui permettent la production de microstructures complexes en silicium pour les futurs composants optiques à rayons X.

Vous contribuerez à la recherche de pointe dans les domaines suivants :

• Intégration, qualification et évaluation du rendement d'un processus de microfabrication avancé et non conventionnel
• Optimisation systématique des paramètres de fabrication pour améliorer la robustesse, la reproductibilité et l'évolutivité des procédés
• Caractérisation des microstructures à haut rapport d'aspect, y compris le développement de méthodes de métrologie et d'analyse des défauts

Vos responsabilités

• Fabrication et traitement d'échantillons sur des plaquettes de silicium de 4 pouces à l'aide de photolithographie UV, de dépôts de films minces, de traitements thermiques et de gravure chimique assistée par métal (MacEtch)
• Effectuer une caractérisation structurelle et dimensionnelle en utilisant la microscopie optique, la microscopie électronique à balayage (SEM) et la profilométrie
• Documenter de manière structurée et traçable les procédures de fabrication, les résultats des procédés et les résultats expérimentaux.
• Analyser les données, établir des rapports techniques et contribuer aux résultats attendus du projet
• Présenter les résultats de la recherche lors de conférences internationales, de colloques scientifiques et d'ateliers internes
• Diffuser les résultats au moyen de publications scientifiques à impact élevé et d'activités de recherche collaborative

Profil

Nous recherchons un professionnel hautement motivé, doté d'un solide esprit de collaboration, d'une approche pratique de la résolution de problèmes et d'une capacité démontrée de produire des résultats dans un environnement de recherche dynamique.

• Physique, chimie, sciences des matériaux, génie ou une discipline étroitement liée
• Expérience éprouvée de travail dans des environnements propres à semi-conducteurs, avec une solide compréhension du traitement des semi-conducteurs et une expertise pratique en photolithographie et en microscopie électronique à balayage (SEM)
• L'expérience de la gravure au silicium et de la fabrication de MEMS est très souhaitable. La participation antérieure à la recherche translationnelle à l'interface entre le milieu universitaire et l'industrie constituerait un avantage distinct.
• Fortes capacités d'analyse et de résolution de problèmes, associées à une attitude pratique et pratique et à la capacité de travailler efficacement au sein d'équipes multidisciplinaires
• Capacité de gérer les priorités et de fonctionner efficacement dans un environnement axé sur le projet avec des délais exigeants
• Volonté de voyager en Europe (jusqu'à 20% du temps de travail)
• Excellentes compétences en communication écrite et verbale en anglais

Nous offrons

Notre organisation fonctionne selon les principes de collaboration interdisciplinaire, d'innovation et de dynamisme. En tant que membre apprécié de notre équipe, vous pouvez vous attendre à recevoir une formation complète en cours d'emploi ainsi qu'un accès à diverses possibilités de perfectionnement personnel et professionnel. En outre, nous favorisons une forte culture de formation professionnelle, qui vous permettra d'améliorer vos compétences et de faire progresser votre carrière.

Nous reconnaissons l'importance de parvenir à un équilibre sain entre le travail et la vie personnelle et, à ce titre, nous offrons des conditions d'emploi modernes et une infrastructure sur place pour vous aider à optimiser votre horaire afin de répondre à vos intérêts personnels et à vos engagements familiaux.

Votre contrat de travail sera initialement d'une durée d'un an, avec possibilité de prolongation.

Nous apprécions la diversité et la durabilité

Conformément à nos valeurs , ETH Zurich encourage une culture inclusive. Nous favorisons l'égalité des chances, valorisons la diversité et favorisons un environnement de travail et d'apprentissage dans lequel les droits et la dignité de tous nos employés et étudiants sont respectés. Visitez notre site Web sur l'égalité des chances et la diversité pour découvrir comment nous garantissons un environnement équitable et ouvert qui permet à chacun de grandir et de prospérer. La durabilité est une valeur fondamentale pour nous – nous travaillons constamment vers un avenir neutre sur le plan climatique.

Curieux ? Nous aussi.

Nous sommes impatients de recevoir votre demande en ligne avec les documents suivants :

• Lettre de motivation
• CV
• Liste des publications
• Transcriptions
• Au moins deux lettres de référence

Vous trouverez de plus amples informations sur la chaire d'imagerie par rayons X sur notre site Web. Les questions concernant le poste doivent être adressées au Prof. Dr Marco Stampanoni ou Dr Lucia Romano à [email protected] ou [email protected] .

Veuillez noter que nous acceptons exclusivement les demandes soumises par notre portail en ligne. Les demandes par courriel ou par la poste ne seront pas prises en considération.

Nous tenons à souligner que la présélection est effectuée par les recruteurs responsables et non par l'intelligence artificielle.

A propos de l'ETH Zürich

ETH Zurich est l'une des plus grandes universités du monde spécialisées dans la science et la technologie. Nous sommes réputés pour notre excellente éducation, recherche fondamentale de pointe et transfert direct de nouvelles connaissances dans la société. Plus de 30 000 personnes de plus de 120 pays trouvent notre l'université d'être un lieu qui favorise la pensée indépendante et un environnement qui inspire l'excellence. Situé au cœur de l'Europe, mais forgeant des liens partout dans le monde, nous travaillons ensemble pour développer des solutions aux défis mondiaux d'aujourd'hui et de demain.

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